2018After Effects CC 蒙版的創(chuàng)建

2018After Effects CC 蒙版的創(chuàng)建

當(dāng)一個(gè)素材被合成到一個(gè)項(xiàng)目里時(shí)，需要將一些不必要的背景去除掉，但并不是所有素材的 背景都是非常容易被分離出來(lái)，這時(shí)我們必須使用【蒙版】Mask將背景遮罩?！久砂妗勘粍?chuàng)建時(shí) 也會(huì)作為圖層的一個(gè)屬性顯現(xiàn)在屬性列表里。

【蒙版】Mask是一個(gè)用路徑繪制的區(qū)域，控制透明區(qū)域和不透明區(qū)域的范圍。在A(yíng)fter Effects 中用戶(hù)可以通過(guò)遮罩繪制圖形，控制效果范圍等各種富于變化的效果。當(dāng)一個(gè)【蒙版】Mask被創(chuàng) 建后，位于【蒙版】Mask范圍內(nèi)的區(qū)域是可以被顯示的，區(qū)域范圍外的圖像將不可見(jiàn)，如圖所示。